Practice for conversion between resistivity and dopant density for boron-doped, phosphorus-doped, and arsenic-doped silicon
2014-12-31
2015-09-01
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
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| SN/T 1031.1-2012 | 出口粗氧化锑化学分析方法 第1部分：汞含量的测定 | 现行 | 2012-05-07 | 2012-11-16 |
| JC/T 3044-2026 | 金刚石膜中硼掺杂含量的测定 二次离子质谱法 | 即将实施 | 2026-06-01 | 2026-12-01 |
| YS/T 1828-2025 | 半导体材料掺杂用扩散膜 | 即将实施 | 2025-12-17 | 2026-07-01 |