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Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boron，aluminium，phosphorus，vanadium，chrome，manganese，iron，cobalt，nickel，copper，molybdenum，arsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
现行
2012-12-31
2013-10-01
GB/T 29056-2012
国家标准委
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
L90
31-030
国家标准
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
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