微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法

Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer

GB/T 34900-2017 推荐性国家标准

现行

标准状态

发布日期

2017-11-01

实施日期

2018-05-01

基础信息

标准号

GB/T 34900-2017

批准发布部门

国家标准委

发布部门

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

技术归口

国家标准委

标准分类

中国标准分类号

L55

国际标准分类号

31.200

标准层级

国家标准

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