半导体晶片近边缘几何形态评价 第3部分:扇形区域平整度法(ESFQR、ESFQD、ESBIR)

Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 3:Sector area flatness(ESFQR,ESFQD,ESBIR)

GB/T 43894.3-2026 推荐性国家标准

即将实施

标准状态

发布日期

2026-07-02

实施日期

2027-02-01

基础信息

标准号

GB/T 43894.3-2026

批准发布部门

国家标准委

发布部门

国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会

技术归口

国家标准委

标准分类

中国标准分类号

H21

国际标准分类号

77.040

标准层级

国家标准

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