The activation analysis method for the determination of elemental impurities in semiconductor silicon materials
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| DB15/T 688.1-2014 | 二氧化钍粉末化学分析方法 第1部分：二氧化钍粉末中铝、镍等22种杂质元素的测定—电感耦合等离子体发射光谱法 [内蒙古自治区] | 废止 | 2014-05-15 | 找相似 |
| T/CMES 08001-2020 | 铬铁 杂质元素的测定 电感耦合等离子体原发射光谱法 | 现行 | 2020-12-07 | —— |
| T/CMES 08002-2020 | 铌铁 杂质元素的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2020-12-07 | —— |
| YS/T 903.3-2025 | 回收铟原料化学分析方法 第3部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2026-02-01 | 找相似 |
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| XB/T 633-2023 | 稀土氧化物中杂质元素化学分析方法 辉光放电质谱法 | 现行 | 2024-07-01 | 找相似 |
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| YS/T 1012-2025 | 高纯镍化学分析方法杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2026-03-01 | 找相似 |
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| EJ/T 1102-1999 | 天然二氧化铀中银等二十四种杂质元素的测定 ICP-AES 法 | 现行 | 1999-07-01 | 找相似 |
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| YS/T 900-2024 | 高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2025-05-01 | 找相似 |