Nanotechnology—Determination of contact angles of nanopowders—Washburn dynamic pressure method
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/HNMES 08-2024 | 滚动轴承 三点接触球轴承径向游隙的测量方法 | 现行 | 2024-08-19 | 2024-09-01 |
| T/IAWBS 013-2019 | 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| T/IAWBS 011-2019 | 导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| SJ/T 11487-2015 | 半绝缘半导体晶片电阻率的无接触测量方法 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| GB/T 18852-2002 | 无损检测 超声检验 测量接触探头声束特性的参考试块和方法 | 废止 | 2002-10-11 | 2003-05-01 |
| GB/T 12113-2003 | 接触电流和保护导体电流的测量方法 | 废止 | 2003-11-24 | 2004-08-01 |
| GB/T 15078-2008 | 贵金属电触点材料接触电阻的测量方法 | 废止 | 2008-03-31 | 2008-09-01 |
| GB/T 32592-2016 | 轨道交通 受流系统 受电弓与接触网动态相互作用测量的要求和验证 | 废止 | 2016-04-25 | 2016-11-01 |
| GB/T 32592-2023 | 轨道交通 受流系统 受电弓与接触网动态相互作用测量的要求和验证 | 现行 | 2023-11-27 | 2024-03-01 |
| T/IAWBS 011-2019 | 导电碳化硅单晶片电阻率测量方法—非接触涡流法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| T/IAWBS 013-2019 | 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
| GB/T 47251.1-2026 | 印刷电子设备 接触式印刷刚性印版 第1部分：印版外形尺寸测量方法 | 即将实施 | 2026-02-27 | 2026-06-01 |
| GB/T 47251.2-2026 | 印刷电子设备 接触式印刷刚性印版 第2部分：印版图案尺寸测量方法 | 即将实施 | 2026-02-27 | 2026-06-01 |
| JJF 1517-2015 | 非接触式静电电压测量仪校准规范 | 现行 | 2015-04-10 | 2015-07-10 |
| GB/T 36081-2018 | 纳米技术 硒化镉量子点纳米晶体表征 荧光发射光谱法 | 现行 | 2018-03-15 | 2018-10-01 |
| GB/T 39530-2020 | 热喷涂 纳米氧化锆粉末及涂层制备工艺技术条件 | 现行 | 2020-12-14 | 2021-11-01 |
| GB/T 41050-2021 | 纳米技术 光催化纳米材料降解苯性能测试方法 | 现行 | 2021-12-31 | 2022-07-01 |
| GB/T 44790-2024 | 纳米技术 聚苯乙烯纳米纤维固相萃取性能检测方法 | 现行 | 2024-10-26 | 2025-05-01 |