主要技术内容
该技术是基于原位热处理与化学修复技术的耦合,旨在大幅降低传统修复技术的能耗和材料使用量,从而降低修复工程的能耗、碳排放水平和修复成本,实现低碳节能可持续修复。本技术指南适用于中、重度有机污染场地修复工程,对原位热处理耦合化学修复工艺设计、工程建设与运行、环境管理、修复质量控制等环节进行指导和规范。本标准不适用于农田污染治理,及放射性污染和致病性生物污染地块的土壤、地下水修复和风险管控工作。
Technical guideline for in-situ thermal treatment coupled with chemical remediation of contaminated sites
现行
2024-07-26
2024-08-01
该技术是基于原位热处理与化学修复技术的耦合,旨在大幅降低传统修复技术的能耗和材料使用量,从而降低修复工程的能耗、碳排放水平和修复成本,实现低碳节能可持续修复。本技术指南适用于中、重度有机污染场地修复工程,对原位热处理耦合化学修复工艺设计、工程建设与运行、环境管理、修复质量控制等环节进行指导和规范。本标准不适用于农田污染治理,及放射性污染和致病性生物污染地块的土壤、地下水修复和风险管控工作。
北京建工环境修复股份有限公司、武汉大学、南京大学、生态环境部南京环境科学研究所
刘鹏、高士祥、钟华、朱长银、万金忠、韦云霄、王镝翔、李昕、解琳、邢轶兰、刘渊文、宋少宇
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/SSSC 006-2024 | 污染场地原位热处理耦合微生物修复技术指南 | 现行 | 2024-07-26 | 2024-08-01 |
| GB/T 46550.2-2025 | 天然气 加臭剂的测定 第2部分:用电化学传感器法测定四氢噻吩含量(外文版EN) | 现行 | 2025-12-02 | |
| GB/T 45065-2024 | 皮革和毛皮 化学试验 挥发性甲基环硅氧烷残留量的测定(外文版EN) | 现行 | 2024-12-31 | |
| GB/T 44943-2024 | 鞋类 化学试验方法 邻苯基苯酚含量的测定 高效液相色谱-串联质谱法(外文版EN) | 现行 | 2024-11-28 | |
| QB/T 8210-2026 | 日用化学用品质量追溯体系规范 | 即将实施 | 2026-02-13 | 2027-03-01 |
| DL/T 3071-2026 | 储能电站化学技术监督规程 | 即将实施 | 2026-06-26 | 2026-12-26 |
| JC/T 977-2026 | 化学钢化玻璃 | 即将实施 | 2026-07-15 | 2027-02-01 |
| JC/T 3004-2026 | 化学气相沉积金刚石热沉片 | 即将实施 | 2026-04-16 | 2026-11-01 |
| JC/T 3035-2026 | 卫生陶瓷釉面耐化学腐蚀性能评价方法 | 即将实施 | 2026-06-01 | 2026-12-01 |
| JC/T 2964.1-2026 | 水泥窑烟气二氧化碳捕集纯化技术规范 第 1 部分:化学吸收 | 现行 | 2026-03-18 | 2026-09-01 |
| GB/T 47794-2026 | 皮革和毛皮 化学试验 双酚类化合物的测定 | 即将实施 | 2026-07-02 | 2027-02-01 |
| GB/T 3810.13-2026 | 陶瓷砖试验方法 第13部分:耐化学腐蚀性的测定 | 即将实施 | 2026-07-02 | 2027-02-01 |
| JJF 2292-2025 | 化学发光定氮仪校准规范 | 现行 | 2025-09-08 | 2026-03-08 |
| JJF 1786-2019 | 化学需氧量(COD)在线自动监测仪型式评价大纲 | 现行 | 2019-12-31 | 2020-03-31 |
| JJF 1643-2017 | 化学需氧量(COD)测定仪型式评价大纲 | 现行 | 2017-09-26 | 2017-12-26 |
| JJF 1117.1-2012 | 化学量测量比对 | 现行 | 2012-12-21 | 2013-03-21 |
| JJF 1361-2012 | 化学发光法氮氧化物分析仪 型式评价大纲 | 现行 | 2012-10-08 | 2013-01-08 |
| JJG 801-2004 | 化学发光法氮氧化物分析仪 | 现行 | 2004-11-09 | 2005-05-09 |
| JJG 975-2002 | 化学需氧量(COD)测定仪 | 现行 | 2002-11-04 | 2003-02-04 |
| SJ/T 12023-2025 | 半导体设备 集成电路制造用化学气相淀积设备(CVD)测试方法 | 现行 | 2025-09-09 | 2026-03-01 |