光致抗蚀干膜用聚酯基膜

本文件规定了光致抗蚀干膜用聚酯基膜（以下简称“基膜”）的术语和定义、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。 适用于以聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂为主要原料，添加适量母料，经熔融挤出、双向拉伸工艺制成的用于光致抗蚀干膜用途的聚酯薄膜的生产、检验和销售。

4　要求 4.1　外观 4.1.1 膜卷 膜卷应收卷整齐、松紧一致，无接头、跑边、皱筋、划伤、切口毛边、油污及任何影响适用性的缺陷。 4.1.2 表面缺陷 表面缺陷应符合表1要求。 4.2　尺寸及偏差 4.2.1 厚度偏差 产品公称厚度范围一般在15μm～23μm，厚度偏差应符合表2的要求。 4.2.2 宽度和长度偏差 应符合表3的要求。 4.3　物理性能 应符合表4的要求。

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