主要技术内容
本文件规定了采用化学共沉淀法、电熔法合成的高纯氧化钇部分稳定氧化锆（ZrO2(HfO2)-7~8 wt. %Y2O3）原材料所制备的陶瓷靶材的技术要求、质量保证，标志、包装、运输和贮存等。本文件适用于电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材。
Technical specification of 8YSZ target for Electron Beam Physical Vapor Deposition
现行
2023-02-07
2023-03-01
T/CSEA 26-2023
中国表面工程协会
否
25.220.01 表面处理和镀涂综合
C336 金属表面处理及热处理加工
团体标准
本文件规定了采用化学共沉淀法、电熔法合成的高纯氧化钇部分稳定氧化锆（ZrO2(HfO2)-7~8 wt. %Y2O3）原材料所制备的陶瓷靶材的技术要求、质量保证，标志、包装、运输和贮存等。 本文件适用于电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材。
本文件规定了采用化学共沉淀法、电熔法合成的高纯氧化钇部分稳定氧化锆（ZrO2(HfO2)-7~8 wt. %Y2O3）原材料所制备的陶瓷靶材的技术要求、质量保证，标志、包装、运输和贮存等。本文件适用于电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材。
北京金轮坤天特种机械有限公司、中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司、北京航空航天大学
何箐、邹晗、王世兴、王璐、彭徽
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
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