硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers

GB/T 4058-2009 推荐性国家标准

现行

标准状态

发布日期

2009-10-30

实施日期

2010-06-01

基础信息

标准号

GB/T 4058-2009

批准发布部门

国家标准委

发布部门

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

技术归口

国家标准委

标准分类

中国标准分类号

H80

国际标准分类号

29.045

标准层级

国家标准

专题

相似标准

标准号	标准名称	状态	发布日期	实施日期
HG/T 2571-2006	抛光膏	现行	2006-07-26	2007-03-01
HG/T 4079-2009	金属抛光表面质量检测及评判规则	现行	2009-02-05	2009-07-01
JC/T 970.2-2018	陶瓷瓷质砖抛光技术装备第2部分：磨边倒角机	现行	2018-10-22	2019-04-01
YS/T 873-2013	铝合金抛光膜层规范	现行	2013-04-25	2013-09-01
YS/T 25-1992	硅抛光片表面清洗方法	现行	1992-03-09	1993-01-01
GB/T 30712-2014	抛光钻石质量测量允差的规定	现行	2014-03-27	2014-10-01
GB/T 26065-2010	硅单晶抛光试验片规范	现行	2011-01-10	2011-10-01
GB/T 12964-2018	硅单晶抛光片	现行	2018-09-17	2019-06-01
DB44/T 530-2008	南珠抛光技术规范	现行	2008-07-11	2008-10-01
DB3707/T 31-2021	设施蔬菜连作障碍综合防控技术规程	现行	2021-07-21	2021-08-20
GB/T 32710.13-2016	环境试验仪器及设备安全规范第13部分：振荡器、振荡恒温水槽和振荡恒温培养箱	现行	2016-06-14	2017-01-01