Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
现行
2021-12-31
2022-07-01
GB/T 41064-2021
中国科学院
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
中国科学院
该标准采用国际标准
G04
71.040.40
国家标准
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
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