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半导体芯片化学机械抛光垫修整用金刚石盘

Diamond discs for dressing the chemical mechanical polishing (CMP) pad of semiconductor chips

GB/T 47927-2026推荐性国家标准

即将实施

更新日期：2026-09-08

标准状态

发布日期

2026-07-30

实施日期

2027-02-01

基础信息

标准号

GB/T 47927-2026

批准发布部门

中国机械工业联合会

发布部门

国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会

技术归口

中国机械工业联合会

标准分类

中国标准分类号

J43

国际标准分类号

25.100.70

标准层级

国家标准

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