Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| YS/T 898-2024 | 高纯钽化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2025-05-01 | 找相似 |
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| YS/T 896-2024 | 高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2025-05-01 | 找相似 |
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| DZ/T 0516-2025 | 硅酸盐岩石化学分析方法 锡含量的测定 过氧化钠熔融—电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2025-10-01 | 找相似 |
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| JB/T 8927-1999 | 铝及铝合金等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)膜/有机涂层 | 现行 | 2000-01-01 | 找相似 |
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