| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| JB/T 8226.4-1999 | 光学零件镀膜 内反射膜 | 现行 | 1999-08-06 | 2000-01-01 |
| JB/T 8945-2010 | 真空溅射镀膜设备 | 现行 | 2010-02-21 | 2010-07-01 |
| JB/T 8226.6-1999 | 光学零件镀膜 窄带干涉滤光膜 | 现行 | 1999-08-06 | 2000-01-01 |
| JB/T 8226.3-1999 | 光学零件镀膜 外反射膜 | 现行 | 1999-08-06 | 2000-01-01 |
| JB/T 8226.8-1999 | 光学零件镀膜 截止滤光膜 | 现行 | 1999-08-06 | 2000-01-01 |
| JB/T 5589-1991 | 光学零件镀膜高反射膜 | 现行 | 1991-07-16 | 1992-07-01 |
| JB/T 5474-1991 | 光学零件镀膜 偏振膜 | 现行 | 1991-07-15 | 1992-07-01 |
| JB/T 8226.5-1999 | 光学零件镀膜 中性滤光膜 | 现行 | 1999-08-06 | 2000-01-01 |
| JB/T 8946-2010 | 真空离子镀膜设备 | 现行 | 2010-02-21 | 2010-07-01 |
| JB/T 8226.2-1999 | 光学零件镀膜 水解法镀双层减反射膜 | 现行 | 1999-08-06 | 2000-01-01 |
| JB/T 8226.1-1999 | 光学零件镀膜 减反射膜 | 现行 | 1999-08-06 | 2000-01-01 |
| JB/T 8226.7-1999 | 光学零件镀膜 分束膜 | 现行 | 1999-08-06 | 2000-01-01 |
| GB/T 11164-2011 | 真空镀膜设备通用技术条件 | 现行 | 2011-11-21 | 2012-03-01 |
| HG/T 5299-2018 | 铟锡氧化物（ITO）镀膜用透明聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）硬化薄膜 | 现行 | 2018-04-30 | 2018-09-01 |
| HG/T 5300-2018 | 铟锡氧化物（ITO）镀膜用折射率匹配硬化膜 | 现行 | 2018-04-30 | 2018-09-01 |
| SJ/T 11185-1998 | 蒸发镀膜设备通用规范 | 现行 | 1998-03-11 | 1998-05-01 |
| JB/T 6922-2015 | 真空蒸发镀膜设备 | 现行 | 2015-10-10 | 2016-03-01 |
| FZ/T 60010-1993 | 金属镀膜复絮片断裂强力和拼搭强力的测定 | 现行 | 1993-02-15 | 1993-07-01 |