| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 11199-2024 | 高纯氢氧化钠 | 现行 | 2024-03-15 | 2024-10-01 |
| GB/T 44759-2024 | 高纯镍靶材 | 现行 | 2024-10-26 | 2025-05-01 |
| GB/T 5828-2025 | 纯氙、高纯氙和超纯氙 | 即将实施 | 2025-08-29 | 2026-03-01 |
| JB/T 2750-2020 | 高纯石墨 | 现行 | 2020-04-16 | 2021-01-01 |
| JB/T 7621-1994 | 电力半导体器件工艺用高纯水 | 现行 | 1994-12-09 | 1995-06-01 |
| JB/T 11994-2014 | 铸造用高纯生铁 | 废止 | 2014-05-12 | 2014-10-01 |
| GB/T 30901-2025 | 高纯氟化铵溶液 | 即将实施 | 2025-08-29 | 2026-03-01 |
| GB/T 33336-2016 | 高纯工业品三氯氧磷 | 现行 | 2016-12-13 | 2017-07-01 |
| JB 2750-1991 | 高纯石墨 | 现行 | 1991-10-24 | 1992-10-01 |
| GB/T 17873-2025 | 纯氖、高纯氖和超纯氖 | 即将实施 | 2025-08-29 | 2026-03-01 |
| YS 40-1992 | 高纯碘化铯 | 现行 | 1992-03-19 | 1993-03-01 |
| YS/T 229.2-2013 | 高纯铅化学分析方法 第2部分：砷量的测定 原子荧光光谱法 | 现行 | 2013-10-17 | 2014-03-01 |
| YS/T 229.4-2013 | 高纯铅化学分析方法 第4部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2013-10-17 | 2014-03-01 |
| YS/T 935-2013 | 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南 | 现行 | 2013-10-17 | 2014-03-01 |
| YS/T 547-2007 | 高纯五氧化二钽 | 现行 | 2007-11-14 | 2008-05-01 |
| YS/T 34.3-2011 | 高纯砷化学分析方法 极谱法测定硫量 | 现行 | 2011-12-20 | 2012-07-01 |
| YS/T 34.1-2011 | 高纯砷化学分析方法 电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）测定高纯砷中杂质含量 | 现行 | 2011-12-20 | 2012-07-01 |
| YS/T 36.2-2011 | 高纯锡化学分析方法 第2部分：锑量的测定 孔雀绿分光光度法 | 现行 | 2011-12-20 | 2012-07-01 |