Methods for chemical analysis of high purity indium oxide - Part 2: Determination of tin content - Phenylfluorone spectrophotometry
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| DB34/T 1760-2012 | 氧化铟锡透明导电膜玻璃 | 废止 | 2012-12-24 | 2013-01-24 |
| T/ZZB 0629-2018 | 继电器触点用合金内氧化法银氧化锡氧化铟线材 | 现行 | 2018-10-19 | 2018-11-01 |
| YS/T 1711-2024 | 氧化铟锡靶材绑定技术规范 | 现行 | 2024-10-24 | 2025-05-01 |
| YS/T 1780-2025 | 氧化铟镓锌靶材 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |
| SJ/T 11489-2015 | 低位错密度磷化铟抛光片蚀坑密度的测量方法 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| GB/T 11297.6-1989 | 锑化铟单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法 | 现行 | 1989-03-31 | 1990-01-01 |
| GB/T 11297.7-1989 | 锑化铟单晶电阻率及霍耳系数的测试方法 | 现行 | 1989-03-31 | 1990-01-01 |
| GB/T 25934.1-2010 | 高纯金化学分析方法 第1部分：乙酸乙脂萃取分离ICP-AES法 测定杂质元素的含量 | 现行 | 2010-12-23 | 2011-09-01 |
| GB/T 25934.2-2010 | 高纯金化学分析方法 第2部分：ICP-MS-标准加入校正-内标法 测定杂质元素的含量 | 现行 | 2010-12-23 | 2011-09-01 |
| GB/T 36590-2018 | 高纯银化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2018-09-17 | 2019-06-01 |
| YS/T 229.2-2013 | 高纯铅化学分析方法 第2部分：砷量的测定 原子荧光光谱法 | 现行 | 2013-10-17 | 2014-03-01 |
| YS/T 229.4-2013 | 高纯铅化学分析方法 第4部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2013-10-17 | 2014-03-01 |
| YS/T 34.3-2011 | 高纯砷化学分析方法 极谱法测定硫量 | 现行 | 2011-12-20 | 2012-07-01 |
| YS/T 34.1-2011 | 高纯砷化学分析方法 电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）测定高纯砷中杂质含量 | 现行 | 2011-12-20 | 2012-07-01 |
| YS/T 36.2-2011 | 高纯锡化学分析方法 第2部分：锑量的测定 孔雀绿分光光度法 | 现行 | 2011-12-20 | 2012-07-01 |
| YS/T 981.3-2014 | 高纯铟化学分析方法 硅量的测定 硅钼蓝分光光度法 | 现行 | 2014-10-14 | 2015-04-01 |
| YS/T 36.1-2011 | 高纯锡化学分析方法 第1部分：砷量的测定 砷斑法 | 现行 | 2011-12-20 | 2012-07-01 |
| YS/T 38.1-2009 | 高纯镓化学分析方法 第1部分：硅量的测定 钼蓝分光光度法 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |