主要技术内容
本文件规定了光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。本文件适用于光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲的生产和检验。
现行
2023-11-24
2023-12-12
本文件规定了光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产技术要求的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。本文件适用于光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲的生产和检验。
太原科源达精细化工有限公司、太原化学工业集团有限公司、太原市埃斯维达化工科技有限公司
崔文华、白晓宇、张建成、张孝、胡向军、邢继武、安江辉、裴少琳、卫荣荣、陈嘉伟、曲军、尹渊、尹一航、白文英、蔚舒、王杨、张婕
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/QGCML 2308-2023 | 四丁氧甲基甘脲 | 现行 | 2023-11-24 | 2023-12-12 |
| T/ZS 0344-2022 | 数字化无掩模激光直写光刻机 | 现行 | 2022-11-10 | 2022-11-17 |
| DB13/T 6236-2025 | PAS系列投影光刻机同轴对准系统激光器更换及光路调整一般要求 | 现行 | 2025-12-16 | 2026-01-16 |