主要技术内容
本标准规定了 7N 光电子级超纯氨的基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮运及安全要求和质量承诺。本标准规定的产品氨适用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相沉积，也可用于硅或氧化硅的氮化等生产工艺所使用的氨气。分子式： NH3。相对分子质量： 17.031（按 2016 年国际相对原子量）。
7N photoelectric class hyperpure ammonia
现行
2019-11-27
2019-12-31
本标准规定了 7N 光电子级超纯氨的基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮运及安全要求和质量承诺。本标准规定的产品氨适用于半导体工业，氮化硅、氮化镓的化学气相沉积，也可用于硅或氧化硅的氮化等生产工艺所使用的氨气。分子式： NH3。相对分子质量： 17.031（按 2016 年国际相对原子量）。
海宁市英德赛电子有限公司、浙江理工大学、嘉兴学院、杭州士兰明芯科技有限公司
陈树大、戚栋明、周春阳、朱盛霞、周平、彭昆鹏、查春峰、潘佳伟、卢勇华、王龙、赵晓兰、陈华燕（排名不分先后）
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
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