SJ/T 10311-1992 相似标准 第1页

更新时间 2026-10-28
标准号标准名称状态实施日期相似标准
SJ/T 10311-1992低压化学气相淀积设备通用技术条件现行1992-12-01找相似
T/CPIA 0059-2024晶体硅光伏电池用低压化学气相淀积设备现行2024-03-15——
DL/T 1407-2015低压电力线载波设备通用技术条件现行2015-09-01找相似
GB/T 7251.8-2020低压成套开关设备和控制设备 第8部分:智能型成套设备通用技术要求现行2021-06-01找相似
GB/T 7251.8-2005低压成套开关设备和控制设备 智能型成套设备通用技术要求废止2005-08-01找相似
Q/GDW 11071.9-202135kV~750kV变电站通用设备技术要求及接口规范 第9部分:低压并联电抗器现行2021-05-12找相似
Q/GDW 11071.9-2013110(66)kV~750kV智能变电站通用一次设备技术要求及接口规范 第9部分:低压并联电抗器现行2014-07-01找相似
NB/T 11208-2023低压直流配电保护设备通用要求现行2023-11-26找相似
SN/T 2874.1-2011进出口低压成套开关设备和控制设备检验规程 第1部分:通用要求现行2011-12-01找相似
GB/T 18216.1-2021交流1000V和直流1500V及以下低压配电系统电气安全 防护措施的试验、测量或监控设备 第1部分:通用要求现行2021-12-01找相似
GB/T 18216.1-2012交流1000V和直流1500V以下低压配电系统电气安全 防护措施的试验、测量或监控设备 第1部分:通用要求废止2013-02-15找相似
SJ/T 11829.1-2022晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备 第1部分:管式PECVD设备现行2023-01-01找相似
SJ/T 11829.2-2022晶体硅光伏电池用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备 第2部分:板式PECVD设备现行2023-01-01找相似
T/WHQASA 12-202410.5G 化学气相沉积设备用下部加热基座现行2024-12-30——
T/ZJCX 0043-2024等离子增强化学气相沉积设备用石墨舟现行2024-07-24——
T/CPIA 0065-2024异质结电池用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备现行2024-03-15——
T/ZJATA 0017-2023制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备现行2023-07-20——
SJ/T 12023-2025半导体设备 集成电路制造用化学气相淀积设备(CVD)测试方法现行2026-03-01找相似