Inorganic chemicals for industrial use―Determination of impurity anions―Ion chromatography method
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| SJ/T 11995-2025 | 锂离子电池电解液中金属杂质含量测试方法 | 现行 | 2025-05-09 | 2025-08-01 |
| YS/T 358.13-2025 | 钽铁、铌铁精矿化学分析方法第 13 部分： 杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2025-08-19 | 2026-03-01 |
| YS/T 1781.4-2025 | 高温形状记忆合金化学分析方法 第4部分：痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |
| YS/T 1768-2025 | 硅多晶生产用石墨制品表面杂质含量的测定 电感耦合等离子体光谱法 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |
| YS/T 514.9-2024 | 高钛渣、金红石化学分析方法 第9部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2024-10-24 | 2025-05-01 |
| YS/T 1415.2-2024 | 湿法炼锌浸出液化学分析方法 第2部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2024-10-24 | 2025-05-01 |
| YS/T 1755-2025 | 颗粒硅总金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |
| YS/T 900-2024 | 高纯钨化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2024-10-24 | 2025-05-01 |
| YS/T 898-2024 | 高纯钽化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2024-10-24 | 2025-05-01 |
| YS/T 892-2024 | 高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2024-10-24 | 2025-05-01 |
| YS/T 896-2024 | 高纯铌化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2024-10-24 | 2025-05-01 |
| YS/T 1738-2025 | 铸造碳化钨粉 杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2025-04-10 | 2025-11-01 |
| YS/T 360.6-2024 | 钛铁矿精矿化学分析方法 第6部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2024-10-24 | 2025-05-01 |
| T/CNIA 0020-2019 | 氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2019-02-13 | 2019-06-01 |
| T/CNIA 0017-2019 | 多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2019-02-13 | 2019-06-01 |
| T/CNIA 0064-2020 | 多晶硅行业用无尘擦拭布中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2020-05-27 | 2020-08-01 |
| T/CNIA 0061-2020 | 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2020-05-27 | 2020-08-01 |
| T/CMES 08002-2020 | 铌铁 杂质元素的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2020-12-07 | 2020-12-07 |