| WJ/Z 6-2014 | 光学零件镀膜用硅酸乙酯典型工艺 | 废止 | 2014-05-06 | 2014-10-01 |
| JB/T 6179-1992 | 光学零件镀膜分类、符号及标注 | 废止 | 1992-05-15 | 1993-01-01 |
| JB/T 8226.3-1995 | 光学零件镀膜 外反射膜 | 废止 | 1996-04-14 | 1996-04-14 |
| JB/T 8226.2-1995 | 光学零件镀膜 水解法镀双层减反射膜 | 废止 | 1996-04-14 | 1996-04-14 |
| JB/T 8226.1-1995 | 光学零件镀膜 减反射膜 | 废止 | 1996-04-14 | 1996-04-14 |
| JB/T 8226.7-1995 | 光学零件镀膜 分束膜 | 废止 | 1996-04-14 | 1996-04-14 |
| JB/T 8226.4-1995 | 光学零件镀膜 内反射膜 | 废止 | 1996-04-14 | 1996-04-14 |
| JB/T 13361-2018 | 紫外、可见和近红外光学滤光片 | 现行 | 2018-04-30 | 2018-12-01 |
| GB/T 7962.3-2010 | 无色光学玻璃测试方法 第3部分:光学均匀性 全息干涉法 | 现行 | 2011-01-14 | 2011-05-01 |
| GB/T 7962.2-2010 | 无色光学玻璃测试方法 第2部分:光学均匀性 斐索平面干涉法 | 现行 | 2011-01-14 | 2011-05-01 |
| GB/T 34893-2017 | 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法 | 现行 | 2017-11-01 | 2018-05-01 |
| GB/T 34894-2017 | 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构应变梯度测量方法 | 现行 | 2017-11-01 | 2018-05-01 |
| GB/T 34900-2017 | 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法 | 现行 | 2017-11-01 | 2018-05-01 |
| GB/T 44078-2024 | 光电系统中光学中心间距的测定 低相干干涉测量法 | 现行 | 2024-05-28 | 2024-12-01 |
| T/IAWBS 012-2019 | 碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法 | 现行 | 2019-12-27 | 2019-12-31 |
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| GB/T 18311.47-2026 | 纤维光学互连器件和无源器件 基本试验和测量程序 第3-47部分:检查和测量 采用干涉法测量PC/APC球面抛光型插针的端面几何尺寸 | 即将实施 | 2026-02-27 | 2026-09-01 |
| JB/T 7502-1994 | 离子镀膜前零件表面质量控制技术要求 | 现行 | 1994-12-09 | 1995-10-01 |