Measurement method for surface metal contamination on sapphire polished substrate wafer
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| T/CAMMT 28-2020 | 金属表面电解质等离子抛光工艺规范 | 现行 | 2020-12-10 | —— |
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| T/IAWBS 012-2019 | 碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法 | 现行 | 2019-12-31 | —— |
| T/CAMMT 28-2020 | 金属表面电解质等离子抛光工艺规范 | 现行 | 2020-12-10 | —— |
| NB/T 20709-2023 | 核电厂射线照相底片数字化技术规范 | 现行 | 2024-04-11 | 找相似 |
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