| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| GA/T 1935-2021 | 法庭科学 物理显影液显现手印技术规范 | 现行 | 2022-05-01 | 找相似 |
| JB/T 6156-2007 | 重氮复印机用无氨显影液技术条件 | 现行 | 2008-03-01 | 找相似 |
| JB/T 10935-2010 | 数字复印机、激光打印机用显影磁辊 技术条件 | 废止 | 2010-07-01 | 找相似 |
| JB/T 6795-2007 | 静电复印机用显影磁辊技术条件 | 废止 | 2008-03-01 | 找相似 |
| JB/T 5426-2004 | 软片显影机 技术条件 | 废止 | 2005-04-01 | 找相似 |
| JB/T 6156-1992 | 重氮复印机用无氨显影液 技术条件 | 废止 | 1993-01-01 | 找相似 |
| JB/T 6795-1993 | 静电复印机显影磁辊 技术条件 | 废止 | 1994-01-01 | 找相似 |
| JB/T 5430-1991 | 预制感光版显影机 技术条件 | 废止 | 1992-07-01 | 找相似 |
| JB/T 5426-1991 | 软片显影机 技术条件 | 废止 | 1992-07-01 | 找相似 |
| GB/T 29792-2013 | 静电复印（打印）设备用显影磁辊 | 现行 | 2014-04-15 | 找相似 |
| SJ/T 11184-1998 | 显影设备通用规范 | 现行 | 1998-05-01 | 找相似 |
| GB/T 37403-2019 | 薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)用四甲基氢氧化铵显影液 | 现行 | 2019-09-01 | 找相似 |
| T/CEMIA 036-2023 | 半导体显示用高碱浓度负胶显影液 | 现行 | 2023-11-30 | —— |
| SJ/T 11511-2015 | 液晶显示器用 正胶显影液 | 现行 | 2015-10-01 | 找相似 |
| SJ/T 11508-2015 | 集成电路用 正胶显影液 | 现行 | 2015-10-01 | 找相似 |
| SJ/T 11636-2016 | 电子工业用显影液中四甲基氢氧化铵的测定 自动电位滴定法 | 现行 | 2016-09-01 | 找相似 |
| SJ/T 11634-2016 | 电子工业用显影液中甲醇的测定 顶空气相色谱法 | 现行 | 2016-09-01 | 找相似 |
| SJ/T 11635-2016 | 电子工业用显影液中碳酸根离子的测定 自动电位滴定法 | 现行 | 2016-09-01 | 找相似 |