主要技术内容
本文件规定了射频电源动态阻抗测试方法的术语和定义、原理、测试环境条件、仪器设备、测试方法、测试报告。本文件适用于半导体刻蚀、薄膜沉积等应用场合中，输出频率0.2 MHz～100 MHz的射频电源动态阻抗测试。
Test method for dynamic impedance of RF generator
现行
2022-07-11
2022-07-11
T/GVS 007-2022
广东省真空学会
否
K 80
19.080
M745 质检技术服务
团体标准
本文件规定了射频电源动态阻抗测试方法的术语和定义、原理、测试环境条件、仪器设备、测试方法、测试报告。 本文件适用于半导体刻蚀、薄膜沉积等应用场合中，输出频率0.2 MHz～100 MHz的射频电源动态阻抗测试。
本文件规定了射频电源动态阻抗测试方法的术语和定义、原理、测试环境条件、仪器设备、测试方法、测试报告。本文件适用于半导体刻蚀、薄膜沉积等应用场合中，输出频率0.2 MHz～100 MHz的射频电源动态阻抗测试。
深圳市恒运昌真空技术有限公司、广东工业大学、大连理工大学、拓荆科技股份有限公司
乐卫平、林伟群、姚志毅、唐亚海、林桂浩、黄永镇、刘涛、张桂东、张赛谦、郭冬、高飞
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
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