主要技术内容
本标准规定了200mm重掺磷直拉硅单晶抛光片的术语和定义、产品分类、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输和贮存、订货单(或合同)内容和质量承诺。本标准适用于以电子级多晶硅为主要原材料,采用直拉法制备的直径为200mm的硅单晶抛光片。产品主要用于集成电路、分立器件用外延片的衬底。
200 mm heavily phosphorus-doped single crystalline Czochralski silicon polished wafers
现行
2018-10-19
2018-11-01
本标准规定了200mm重掺磷直拉硅单晶抛光片的术语和定义、产品分类、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输和贮存、订货单(或合同)内容和质量承诺。本标准适用于以电子级多晶硅为主要原材料,采用直拉法制备的直径为200mm的硅单晶抛光片。产品主要用于集成电路、分立器件用外延片的衬底。
本标准由浙江省标准化研究院牵头组织制定。 本标准主要起草单位:浙江金瑞泓科技股份有限公司。 本标准参与起草单位:金瑞泓科技(衢州)有限公司。
本标准主要起草人:许峰、朱华英、陈平人、田达晰、梁兴勃、刘红方、李方虎、李艳玲。
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/ZZB 0371-2018 | 智能锯切卧式带锯床 | 现行 | 2018-06-22 | 2018-08-01 |
| T/AQB 12-2022 | 工业刷 抛光盘刷技术规范 | 现行 | 2022-01-28 | 2022-01-31 |
| T/AQB 17-2022 | 工业刷 抛光辊刷技术规范 | 现行 | 2022-07-22 | 2022-07-22 |
| T/ZZB 0648-2018 | 200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片 | 现行 | 2018-10-19 | 2018-11-01 |
| DB44/T 1086-2012 | 蒸压陶瓷抛光潭砖 | 废止 | 2011-12-25 | 2012-03-31 |
| GB/T 19921-2005 | 硅抛光片表面颗粒测试方法 | 废止 | 2005-09-19 | 2006-04-01 |
| GB/T 12964-2003 | 硅单晶抛光片 | 废止 | 2003-06-16 | 2004-01-01 |