用于零电压软开通电路的氮化镓高电子迁移率晶体管动态导通电阻测试方法

Dynamic on-resistance test method for GaN high electron mobility transistor (HEMT) in zero-voltage-switching-on circuits

T/CASAS 034-2024 制造业

现行

标准状态

发布日期

2024-09-30

实施日期

2024-09-30

基础信息

标准号

T/CASAS 034-2024

团体名称

北京第三代半导体产业技术创新战略联盟

包含专利

标准分类

国际标准分类号

31.080.01 半导体器分立件综合

行业分类

C397 电子器件制造

标准层级

团体标准

适用范围

本文件描述了用于零电压软开通电路的氮化镓高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)动态导通电阻测试方法。 本文件适用于进行GaN HEMT的生产研发、特性表征、量产测试、可靠性评估及应用评估等工作场景。可应用于以下器件: a) GaN增强型和耗尽型分立电力电子器件; b) GaN集成功率电路; c) 以上的晶圆级及封装级产品。

主要技术内容

本文件描述了用于零电压软开通电路的氮化镓高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)动态导通电阻测试方法。本文件适用于进行GaN HEMT的生产研发、特性表征、量产测试、可靠性评估及应用评估等工作场景。可应用于以下器件:a) GaN增强型和耗尽型分立电力电子器件;b) GaN集成功率电路;c) 以上的晶圆级及封装级产品。

起草单位

浙江大学、浙江大学杭州国际科创中心、广东工业大学、工业和信息化部电子第五研究所、电子科技大学、南京大学、佛山市联动科技股份有限公司、佛山市国星光电股份有限公司、西交利物浦大学、香港科技大学、深圳智芯微电子科技有限公司、深圳市大能创智半导体有限公司、华为技术有限公司、苏州能讯高能半导体有限公司、英诺赛科(苏州)半导体有限公司、纳微达斯半导体(上海)有限公司、杭州士兰微电子股份有限公司、英飞凌科技(中国)有限公司、矽力杰半导体技术(杭州)有限公司、浙江聚新汽车电子有限责任公司、连云港杰瑞电子有限公司、晟星和科技(深圳)有限公司、杭州蔚斯博系统科技有限公司、深圳英飞源技术有限公司、深圳市航嘉驰源电气股份有限公司、东莞立讯技术有限公司、深圳市振华微电子有限公司、小米通讯技术有限公司、阳光电源股份有限公司、长城电源技术有限公司、北京第三代半导体产业技术创新战略联盟

起草人

吴新科、董泽政、贺致远、施宜军、明鑫、周峰、刘庆源、成年斌、刘雯、孙佳慧、文豪、谢斌、周泉斌、裴轶、田水林、刘小明、徐迎春、贾利芳、宋清亮、赵晨、徐昌国、王廷营、毛敏、刘钢、柳树渡、赵燕军、王福强、湛坤、林梓彦、王腾飞、蔡磊、赵璐冰

专题

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