Test mothod for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance
现行
2011-01-10
2011-10-01
GB/T 14847-2010
国家标准委
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
国家标准委
H80
29.045
国家标准
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 13389-2014 | 掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程 | 现行 | 2014-12-31 | 2015-09-01 |
| DB11/T 765.3-2010 | 档案数字化规范 第3部分:缩微胶片档案数字化加工 | 现行 | 2010-12-29 | 2011-04-01 |
| GB/T 37850-2019 | 食品从业人员用工作服技术要求 | 现行 | 2019-08-30 | 2020-09-01 |