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重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

Test mothod for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance

GB/T 14847-2010推荐性国家标准

废止

更新日期：2026-03-06
外延厚度红外反射测量

标准状态

发布日期

2011-01-10

实施日期

2011-10-01

基础信息

标准号

GB/T 14847-2010

批准发布部门

国家标准委

发布部门

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

技术归口

国家标准委

标准分类

中国标准分类号

H80

国际标准分类号

29.045

标准层级

国家标准

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