重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

Test mothod for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance

GB/T 14847-2010 推荐性国家标准

现行

标准状态

发布日期

2011-01-10

实施日期

2011-10-01

基础信息

标准号

GB/T 14847-2010

批准发布部门

国家标准委

发布部门

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

技术归口

国家标准委

标准分类

中国标准分类号

H80

国际标准分类号

29.045

标准层级

国家标准

专题

相似标准

标准号 标准名称 状态 发布日期 实施日期
GB/T 13389-2014 掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程 现行 2014-12-31 2015-09-01
DB11/T 765.3-2010 档案数字化规范 第3部分:缩微胶片档案数字化加工 现行 2010-12-29 2011-04-01
GB/T 37850-2019 食品从业人员用工作服技术要求 现行 2019-08-30 2020-09-01