重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法

Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates—Infrared reflectance method

GB/T 14847-2025推荐性国家标准

即将实施

相似
更新日期:2026-03-22

标准状态

发布日期

2025-10-31

实施日期

2026-05-01

基础信息

标准号

GB/T 14847-2025

批准发布部门

国家标准委

技术归口

国家标准委

标准分类

中国标准分类号

H21

国际标准分类号

77.040

标准层级

国家标准

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