硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法

Test method for sheet resistance of silicon epitaxial, diffused and ion-implanted layers using a collinear four-probe array

GB/T 14141-2009推荐性国家标准

现行

上传时间:2026-03-08
格式:pdf

GB/T 14141-2009 相似标准 第1页

更新时间 2026-10-25
标准号标准名称状态发布日期实施日期
GB/T 14141-2009硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定直排四探针法现行2009-10-302010-06-01
YS/T 15-2015硅外延层和扩散层厚度测定 磨角染色法现行2015-04-302015-10-01
YS/T 15-1991硅外延层和扩散层厚度测定磨角染色法废止1991-04-261992-06-01
GB/T 6616-2023半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法现行2023-08-062024-03-01
GB/T 37152-2018纳米技术 碳纳米管材料 薄层电阻现行2018-12-282018-12-28
T/CPIA 0100-2024光伏电池用掺杂层薄层方块电阻的测量方法现行2024-12-152024-12-30
GB/T 6616-2009半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法废止2009-10-302010-06-01
GB/T 47239.6-2026半导体器件 柔性可拉伸半导体器件 第6部分:柔性导电薄膜的薄层电阻测试方法即将实施2026-08-282027-03-01
SY/T 0531-2012油田注入水悬浮颗粒测定方法 电阻感应法现行2012-01-042012-03-01
SY/T 0531-1994油田注入水悬浮颗粒测定法 电阻感应法废止1994-04-051994-10-01
SJ/T 10481-1994硅外延层电阻率的面接触三探针方法现行1994-04-111994-10-01
SY/T 6338-1997岩石可溶有机物和原油族组分棒薄层火焰离子化分析方法废止1997-12-311998-07-01
GB/T 25186-2010表面化学分析 二次离子质谱 - 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子现行2010-09-262011-08-01
GB/T 15862-2012离子注入机通用规范现行2012-11-052013-02-15
GB/T 34174-2017表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序现行2017-09-072018-08-01
YS/T 1371-2020离子注入机用钨材现行2020-12-092021-04-01
EJ/T 647-1994金属用工业离子注入机现行1994-11-111995-05-01
SJ/T 12024-2025半导体设备 集成电路制造 用离子注入机测试方法现行2025-09-092026-03-01