Surface chemical analysis—Depth profiling—Measurement of sputtering rate: mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 32999-2016 | 表面化学分析深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率 | 现行 | 2016-10-13 | 2017-09-01 |
| GB/T 34326-2017 | 表面化学分析深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法 | 废止 | 2017-09-29 | 2018-08-01 |
| GB/T 32997-2016 | 表面化学分析 辉光放电发射光谱定量成分深度剖析的通用规程 | 现行 | 2016-10-13 | 2017-09-01 |
| GB/T 29557-2013 | 表面化学分析深度剖析溅射深度测量 | 现行 | 2013-07-19 | 2014-03-01 |
| GB/T 41064-2021 | 表面化学分析深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 | 现行 | 2021-12-31 | 2022-07-01 |
| GB/T 20175-2025 | 表面化学分析溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/T 40109-2021 | 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法 | 现行 | 2021-05-21 | 2021-12-01 |
| GB/T 32495-2016 | 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法 | 现行 | 2016-02-24 | 2017-01-01 |
| GB/T 20175-2006 | 表面化学分析溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法 | 废止 | 2006-03-27 | 2006-11-01 |
| GB/T 47073-2026 | 表面化学分析深度剖析 中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析 | 即将实施 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| GB/T 34326-2026 | 表面化学分析深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法 | 即将实施 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| SJ/T 10457-1993 | 俄歇电子能谱术语深度剖析标准导则 | 现行 | 1993-12-17 | 1994-06-01 |
| GB/T 22572-2008 | 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法 | 现行 | 2008-12-11 | 2009-10-01 |
| GB/T 22462-2008 | 钢表面纳米、亚微米尺度薄膜 元素深度分布的定量测定 辉光放电原子发射光谱法 | 现行 | 2008-10-30 | 2009-06-01 |
| GB/T 5617-2025 | 钢件表面淬火硬化层深度的测定 | 即将实施 | 2025-08-29 | 2026-03-01 |
| GB/T 9451-2005 | 钢件薄表面总硬化层深度或有效硬化层深度的测定 | 现行 | 2005-07-21 | 2006-01-01 |
| T/QGCML 3109-2024 | 基于深度学习产品表面缺陷识别系统 | 现行 | 2024-02-02 | 2024-02-16 |
| GB/T 36401-2018 | 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告 | 现行 | 2018-06-07 | 2019-05-01 |