YS/T 819-2012 相似标准 第4页
更新时间 2026-10-28| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
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| JB/T 4082-1991 | 溅射离子泵技术条件 | 废止 | 1992-07-01 | 找相似 |
| JB/T 8945-1999 | 真空溅射镀膜设备 | 废止 | 2000-01-01 | 找相似 |
| GB/T 20175-2006 | 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法 | 废止 | 2006-11-01 | 找相似 |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-02-01 | —— |
| T/ZZB 0639-2018 | 氧化锌铝磁控溅射靶材 | 现行 | 2018-11-01 | —— |
| T/CAS 304-2018 | 磁控溅射硅靶材及绑定靶材 | 现行 | 2018-05-29 | —— |
| YS/T 1683-2024 | 磁记录用铬钛合金溅射靶材 | 现行 | 2024-10-01 | 找相似 |
| T/SZS 4034-2021 | 贵金属首饰表面磁控溅射镀铑工艺技术规范 | 现行 | 2021-07-22 | —— |
| T/CAS 304-2018 | 磁控溅射硅靶材及绑定靶材 | 现行 | 2018-05-29 | —— |
| YS/T 1851-2026 | 铂钴铬二氧化硅溅射靶材 | 即将实施 | 2026-11-01 | 找相似 |
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| SJ/T 3328.10-2016 | 电子产品用高纯石英砂 第10部分 铅的测定 | 现行 | 2016-06-01 | 找相似 |
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