主要技术内容
本文件规定了贵金属首饰表面磁控溅射镀铑工艺术语、技术规程，镀铑层质量要求及质量检验等内容。本文件适用于表面需镀覆铑的贵金属首饰加工，其它需镀铑的非贵金属首饰也可参照执行。
Process specification of rhodium film deposited on precious metals jewelry surface by magnetron sputtering
现行
2021-07-22
2021-07-22
T/SZS 4034-2021
团体标准
本文件规定了贵金属首饰表面磁控溅射镀铑工艺术语、技术规程，镀铑层质量要求及质量检验等内容。本文件适用于表面需镀覆铑的贵金属首饰加工，其它需镀铑的非贵金属首饰也可参照执行。
深圳昊翀珠宝科技有限公司、广州番禺职业技术学院、深圳市顺艺珠宝首饰有限公司、国家珠宝检测中心（广东）有限责任公司、深圳市宝联珠宝标准与信息技术促进中心
袁军平、郭礼淳、彭建峰、王昶、李坤、陶震东、郭礼健、陈绍兴、梁健辉、李章平
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/CAS 304-2018 | 磁控溅射硅靶材及绑定靶材 | 现行 | 2018-05-29 | 2018-05-29 |
| T/ZZB 0639-2018 | 氧化锌铝磁控溅射靶材 | 现行 | 2018-10-19 | 2018-11-01 |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-01-29 | 2021-02-01 |
| T/ZZB 0639-2018 | 氧化锌铝磁控溅射靶材 | 现行 | 2018-10-19 | 2018-11-01 |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-01-29 | 2021-02-01 |
| T/GDSHJXH 010-2025 | 首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范 | 现行 | 2025-01-22 | 2025-01-22 |
| T/CIE 132-2022 | 磁控溅射设备薄膜精度测试方 | 现行 | 2022-08-10 | 2022-08-10 |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | 2021-06-28 |
| GB/T 34649-2017 | 磁控溅射用钌靶 | 现行 | 2017-09-29 | 2018-04-01 |
| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-04-11 | 1994-10-01 |
| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| YS/T 718-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| T/SA 23-2021 | 电子商务经营者信息明示通用要求 | 现行 | 2021-07-01 | 2021-07-01 |