| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| NB/T 42028-2023 | 磁控电抗器型高压静止无功补偿装置（MSVC） | 现行 | 2023-02-06 | 2023-08-06 |
| DL/T 1725-2017 | 超高压磁控型可控并联电抗器技术规范 | 现行 | 2017-08-02 | 2017-12-01 |
| DL/T 1217-2013 | 磁控型可控并联电抗器技术规范 | 现行 | 2013-03-07 | 2013-08-01 |
| JB/T 14307-2022 | 磁控开关阀 | 现行 | 2022-10-20 | 2023-04-01 |
| YS/T 718-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| GB/T 45345-2025 | 金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量 | 现行 | 2025-02-28 | 2025-09-01 |
| SJ/T 11263-2002 | 微波炉磁控管用永磁铁氧体分规范 | 现行 | 2002-05-23 | 2002-05-23 |
| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-04-11 | 1994-10-01 |
| GB/T 20301-2015 | 磁控管用无氧铜管 | 现行 | 2015-09-11 | 2016-04-01 |
| GB/T 34649-2017 | 磁控溅射用钌靶 | 现行 | 2017-09-29 | 2018-04-01 |
| T/GVS 017-2024 | 连续式光学磁控溅射镀膜设备 | 现行 | 2024-12-24 | 2024-12-24 |
| T/CES 209-2023 | 12kV磁控柱上开关技术规范 | 现行 | 2023-09-08 | 2023-09-11 |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | 2021-06-28 |
| T/CIE 132-2022 | 磁控溅射设备薄膜精度测试方 | 现行 | 2022-08-10 | 2022-08-10 |