平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶

YS/T 718-2009 YS有色金属

现行

标准状态

发布日期

2009-12-04

实施日期

2010-06-01

基础信息

标准号

YS/T 718-2009

批准发布部门

工业和信息化部

技术归口

全国有色金属标准化技术委员会

制修订

制定

标准分类

中国标准分类号

H63

国际标准分类号

77.150.99

标准类别

标准分类

有色金属

标准层级

行业标准

备案信息

备案号

28131-2010

备案日期

2014-12-26

起草单位

利达光电股份有限公司

起草人

李智超、杨太礼 等

YS/T 718-2009 相关专题

YS/T 718-2009 相似标准

标准号 标准名称 状态 发布日期 实施日期
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 现行 2009-12-04 2010-06-01
T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方 现行 2022-08-10 2022-08-10
T/GDSHJXH 010-2025 首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范 现行 2025-01-22 2025-01-22
T/CSEA 15-2021 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 现行 2021-01-29 2021-02-01
T/ZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材 现行 2018-10-19 2018-11-01
T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 现行 2021-06-28 2021-06-28
GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶 现行 2017-09-29 2018-04-01
SJ/T 10478-1994 磁控溅射设备通用技术条件 现行 1994-04-11 1994-10-01
YS/T 448-2002 铜及铜合金铸造和加工制品宏观组织检验方法 现行 2002-11-22 2003-01-01