高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

Generic specification for high precision magnetron sputtering coating plant

T/GVS 002-2021其他标准

现行

更新日期:2026-03-28

标准状态

发布日期

2021-06-28

实施日期

2021-06-28

基础信息

标准号

T/GVS 002-2021

标准分类

标准层级

团体标准

主要技术内容

本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于极限压力在10-5 Pa~10-3 Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备(以下简称“设备”)。

起草单位

中山凯旋真空科技股份有限公司、广东省中山市质量技术监督标准与编码所、华南理工大学、中山市博顿光电科技有限公司、中山火炬职业技术学院

起草人

李晓刚、聂鹏、叶俊文、吴标平、黎子辉、吴洽、冀鸣、石澎、黄志云、胡双丽、章艺锋、邓志雄

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