主要技术内容
本标准规定了真空磁控溅射镀银有关的术语和定义、工艺方法、材料与设备要求、质量检验以及包装储存等。本标准适用于航空航天、船舶、电子等领域的金属以及非金属零件的真空磁控溅射镀银工艺、质量控制与验收。
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现行
2021-01-29
2021-02-01
T/CSEA 15-2021
中国表面工程协会
否
25.220.01 表面处理和镀涂综合
C336 金属表面处理及热处理加工
团体标准
本标准规定了真空磁控溅射镀银有关的术语和定义、工艺方法、材料与设备要求、质量检验以及包装储存等。本标准适用于航空航天、船舶、电子等领域的金属以及非金属零件的真空磁控溅射镀银工艺、质量控制与验收。
贵州航天精工制造有限公司、武汉大学、沈阳威利德真空技术有限公司、中国航发沈阳发动机研究所
詹兴刚、杨兵、白海萍、李英亮、沈丽娟、胡军林、高乾旺、王光华、胡隆伟、代文彪、余绍伟、杨彪、李世洪、杨军、袁光生、马小红、李祥、张俊、崔薇薇、邹明奎、詹永波、罗元凯、李正刚、修文波、黄丽、杨敏、詹永琴、韩璐、范旭、孙景冬、李鹏
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/GDSHJXH 010-2025 | 首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范 | 现行 | 2025-01-22 | 2025-01-22 |
| T/CIE 132-2022 | 磁控溅射设备薄膜精度测试方 | 现行 | 2022-08-10 | 2022-08-10 |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | 2021-06-28 |
| GB/T 34649-2017 | 磁控溅射用钌靶 | 现行 | 2017-09-29 | 2018-04-01 |
| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-04-11 | 1994-10-01 |
| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| YS/T 718-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| T/CSTM 00260-2021 | 屋面晶体硅光伏与压型钢板构件防火等级试验方法 | 现行 | 2021-01-29 | 2021-04-29 |
| T/CSEA 14-2021 | 无氰碱性镀镉工艺通用规范 | 现行 | 2021-01-29 | 2021-02-01 |
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