主要技术内容
本标准规定了氧化锌铝磁控溅射靶材的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存、质量承诺等。本标准适用于粉末冶金生产的用于磁控溅射沉积节能Low-E玻璃的功能介质层以及薄膜太阳能电池透明电极层等膜层的氧化锌铝磁控溅射靶材。
Alumium doped zinc oxide magnetron sputtering targets
现行
2018-10-19
2018-11-01
T/ZZB 0639-2018
浙江省品牌建设联合会
否
H72
81.060.30 高级陶瓷
C305 玻璃制品制造
团体标准
本标准规定了氧化锌铝磁控溅射靶材的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存、质量承诺等。本标准适用于粉末冶金生产的用于磁控溅射沉积节能Low-E玻璃的功能介质层以及薄膜太阳能电池透明电极层等膜层的氧化锌铝磁控溅射靶材。
宁波森利电子材料有限公司、宁波市标准化研究院、中国科学院宁波材料技术与工程研究所、国标(北京)认证有限公司、汉能装备科技集团有限公司、北京安泰六九新材料科技有限公司、世泰科特种材料(太仓)有限公司
杨晔、周山山、何伟、兰品军、朱永明、李翔、宋伟杰、李勇、马通达、杨立红、宋云娜、张凤戈、夏黎海
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-01-29 | 2021-02-01 |
| T/GDSHJXH 010-2025 | 首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范 | 现行 | 2025-01-22 | 2025-01-22 |
| T/CIE 132-2022 | 磁控溅射设备薄膜精度测试方 | 现行 | 2022-08-10 | 2022-08-10 |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | 2021-06-28 |
| GB/T 34649-2017 | 磁控溅射用钌靶 | 现行 | 2017-09-29 | 2018-04-01 |
| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-04-11 | 1994-10-01 |
| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| YS/T 718-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| T/ZZB 0640-2018 | 电气化铁路接触网用不锈钢紧固件 | 现行 | 2018-10-19 | 2018-11-01 |
| T/ZZB 0638-2018 | 全自动多工位智能冷镦成型机 | 现行 | 2018-10-19 | 2018-11-01 |