主要技术内容
本文件规定了首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射过程中靶材、镀膜工艺和膜层的技术要求、检验方法及检验规则。本文件适用于表面需镀覆玫瑰金膜层的首饰加工,其它需镀覆玫瑰金膜层的工艺饰品也可参照执行。
Technical specification for magnetron sputtering of rose gold film on jewelry surface
现行
2025-01-22
2025-01-22
T/GDSHJXH 010-2025
广东省黄金协会
否
39.060
C322 贵金属冶炼
团体标准
本文件规定了首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射过程中靶材、镀膜工艺和膜层的技术要求、检验方法及检验规则。本文件适用于表面需镀覆玫瑰金膜层的首饰加工,其它需镀覆玫瑰金膜层的工艺饰品也可参照执行。
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| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| T/CIE 132-2022 | 磁控溅射设备薄膜精度测试方 | 现行 | 2022-08-10 | 2022-08-10 |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | 2021-06-28 |
| GB/T 34649-2017 | 磁控溅射用钌靶 | 现行 | 2017-09-29 | 2018-04-01 |
| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-04-11 | 1994-10-01 |
| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| YS/T 718-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 | 现行 | 2009-12-04 | 2010-06-01 |
| T/HNIMA 003-2025 | 乳品离心机 | 现行 | 2025-01-22 | 2025-02-05 |
| T/GDSHJXH 009-2025 | 贵金属首饰耐磨性测定 | 现行 | 2025-01-22 | 2025-01-22 |