| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| YS/T 1358-2020 | 磁记录用铁钴钽合金溅射靶材 | 现行 | 2021-04-01 | 找相似 |
| GB/T 45345-2025 | 金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量 | 现行 | 2025-09-01 | 找相似 |
| GB/T 20175-2025 | 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法 | 现行 | 2026-01-01 | 找相似 |
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| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-10-01 | 找相似 |
| YS/T 1124-2016 | 磁性溅射靶材透磁率测试方法 | 现行 | 2017-01-01 | 找相似 |
| GB/T 34649-2017 | 磁控溅射用钌靶 | 现行 | 2018-04-01 | 找相似 |
| GB/T 25755-2010 | 真空技术 溅射离子泵 性能参数的测量 | 现行 | 2011-10-01 | 找相似 |
| T/CI 863-2024 | 硬质涂层的电弧/溅射复合离子镀设备技术条件 | 现行 | 2024-12-30 | —— |
| T/GVS 017-2024 | 连续式光学磁控溅射镀膜设备 | 现行 | 2024-12-24 | —— |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | —— |
| T/GDSHJXH 010-2025 | 首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范 | 现行 | 2025-01-22 | —— |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-02-01 | —— |
| T/ZZB 0639-2018 | 氧化锌铝磁控溅射靶材 | 现行 | 2018-11-01 | —— |
| YS/T 1024-2015 | 溅射用钽靶材 | 现行 | 2015-10-01 | 找相似 |
| YS/T 1555-2022 | 铂钴铬硼合金溅射靶材 | 现行 | 2023-04-01 | 找相似 |
| YS/T 1357-2020 | 磁记录用铬钽钛合金溅射靶材 | 现行 | 2021-04-01 | 找相似 |
| JB/T 2965-1992 | 溅射离子泵性能测试方法 | 废止 | 1993-07-01 | 找相似 |