| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| YS/T 819-2012 | 电子薄膜用高纯铜溅射靶材 | 现行 | 2013-03-01 | 找相似 |
| YS/T 1636-2023 | 电子薄膜用高纯铜环 | 现行 | 2024-07-01 | 找相似 |
| YS/T 935-2013 | 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南 | 现行 | 2014-03-01 | 找相似 |
| YS/T 893-2013 | 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 | 现行 | 2014-03-01 | 找相似 |
| GB/T 29658-2013 | 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 | 现行 | 2014-05-01 | 找相似 |
| YS/T 1025-2015 | 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 | 现行 | 2015-10-01 | 找相似 |
| GB/T 26017-2020 | 高纯铜 | 现行 | 2021-08-01 | 找相似 |
| GB/T 39158-2020 | 平面显示用高纯铜旋转管靶 | 现行 | 2021-10-01 | 找相似 |
| YS/T 919-2013 | 高纯铜铸锭 | 废止 | 2014-03-01 | 找相似 |
| YS/T 922-2013 | 高纯铜化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2014-03-01 | 找相似 |
| GB/T 39159-2020 | 集成电路用高纯铜合金靶材 | 现行 | 2021-10-01 | 找相似 |
| GB/T 26017-2010 | 高纯铜 | 废止 | 2011-10-01 | 找相似 |
| YS/T 919-2025 | 高纯铜铸锭 | 现行 | 2026-03-01 | 找相似 |
| YS/T 1826-2025 | 高纯铜蒸发料 | 即将实施 | 2026-07-01 | 找相似 |
| GB/T 41064-2021 | 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 | 现行 | 2022-07-01 | 找相似 |
| T/CIET 722-2024 | 半导体用高纯溅射靶材 | 现行 | 2024-10-23 | —— |
| T/ZZB 0093-2016 | 集成电路用高纯钛溅射靶材 | 现行 | —— | —— |
| YS/T 1727-2025 | 高纯钛溅射环 | 现行 | 2025-11-01 | 找相似 |