YS/T 819-2012预览图

YS/T 819-2012 相似标准 第1页

更新时间 2026-10-28
标准号标准名称状态实施日期相似标准
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YS/T 935-2013电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南现行2014-03-01找相似
YS/T 893-2013电子薄膜用高纯钛溅射靶材现行2014-03-01找相似
GB/T 29658-2013电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材现行2014-05-01找相似
YS/T 1025-2015电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材现行2015-10-01找相似
GB/T 26017-2020高纯铜现行2021-08-01找相似
GB/T 39158-2020平面显示用高纯铜旋转管靶现行2021-10-01找相似
YS/T 919-2013高纯铜铸锭废止2014-03-01找相似
YS/T 922-2013高纯铜化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法现行2014-03-01找相似
GB/T 39159-2020集成电路用高纯铜合金靶材现行2021-10-01找相似
GB/T 26017-2010高纯铜废止2011-10-01找相似
YS/T 919-2025高纯铜铸锭现行2026-03-01找相似
YS/T 1826-2025高纯铜蒸发料即将实施2026-07-01找相似
GB/T 41064-2021表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法现行2022-07-01找相似
T/CIET 722-2024半导体用高纯溅射靶材现行2024-10-23——
T/ZZB 0093-2016集成电路用高纯钛溅射靶材现行————
YS/T 1727-2025高纯钛溅射环现行2025-11-01找相似