| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| YS/T 935-2013 | 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南 | 现行 | 2014-03-01 | 相似 |
| YS/T 893-2013 | 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 | 现行 | 2014-03-01 | 相似 |
| YS/T 819-2012 | 电子薄膜用高纯铜溅射靶材 | 现行 | 2013-03-01 | 相似 |
| GB/T 29658-2013 | 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 | 现行 | 2014-05-01 | 相似 |
| YS/T 1025-2015 | 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 | 现行 | 2015-10-01 | 相似 |
| GB/T 41064-2021 | 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 | 现行 | 2022-07-01 | 相似 |
| T/CIET 722-2024 | 半导体用高纯溅射靶材 | 现行 | 2024-10-23 | —— |
| T/ZZB 0093-2016 | 集成电路用高纯钛溅射靶材 | 现行 | —— | |
| YS/T 1727-2025 | 高纯钛溅射环 | 现行 | 2025-11-01 | 相似 |
| YS/T 1835-2026 | 高纯钽磁控溅射环 | 即将实施 | 2026-11-01 | 相似 |
| GB/T 31227-2014 | 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法 | 现行 | 2015-04-15 | 相似 |
| YS/T 718-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 | 现行 | 2010-06-01 | 相似 |
| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2010-06-01 | 相似 |
| T/ZZB 1790-2025 | 铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备 | 现行 | 2025-07-12 | —— |
| T/CIE 132-2022 | 磁控溅射设备薄膜精度测试方 | 现行 | 2022-08-10 | —— |
| T/ZZB 1790-2020 | 铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备 | 现行 | 2020-11-30 | —— |
| T/ZZB 1790-2020 | 铜铟镓硒太阳能电池薄膜溅射沉积设备 | 现行 | 2020-11-30 | —— |
| JJF 1961-2022 | 纯度标准物质定值计量技术规范 高纯金属纯度标准物质 | 现行 | 2022-10-29 | 相似 |