| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
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| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2010-06-01 | 找相似 |
| T/CIE 132-2022 | 磁控溅射设备薄膜精度测试方 | 现行 | 2022-08-10 | —— |
| T/GVS 017-2024 | 连续式光学磁控溅射镀膜设备 | 现行 | 2024-12-24 | —— |
| GB/T 45345-2025 | 金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量 | 现行 | 2025-09-01 | 找相似 |
| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-10-01 | 找相似 |
| GB/T 34649-2017 | 磁控溅射用钌靶 | 现行 | 2018-04-01 | 找相似 |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | —— |
| T/GDSHJXH 010-2025 | 首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范 | 现行 | 2025-01-22 | —— |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-02-01 | —— |
| T/ZZB 0639-2018 | 氧化锌铝磁控溅射靶材 | 现行 | 2018-11-01 | —— |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-02-01 | —— |
| T/ZZB 0639-2018 | 氧化锌铝磁控溅射靶材 | 现行 | 2018-11-01 | —— |
| T/CAS 304-2018 | 磁控溅射硅靶材及绑定靶材 | 现行 | 2018-05-29 | —— |
| T/SZS 4034-2021 | 贵金属首饰表面磁控溅射镀铑工艺技术规范 | 现行 | 2021-07-22 | —— |
| T/CAS 304-2018 | 磁控溅射硅靶材及绑定靶材 | 现行 | 2018-05-29 | —— |
| YS/T 1835-2026 | 高纯钽磁控溅射环 | 即将实施 | 2026-11-01 | 找相似 |
| GB/T 31227-2014 | 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法 | 现行 | 2015-04-15 | 找相似 |