YS/T 719-2009 相似标准 第4页

更新时间 2026-10-28
标准号标准名称状态实施日期相似标准
JB/T 8945-2010真空溅射镀膜设备现行2010-07-01找相似
JB/T 4081-2011真空技术 溅射离子泵现行2012-04-01找相似
YS/T 837-2012溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法现行2013-03-01找相似
YS/T 1358-2020磁记录用铁钴钽合金溅射靶材现行2021-04-01找相似
GB/T 20175-2025表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法现行2026-01-01找相似
GB/T 32999-2016表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率现行2017-09-01找相似
YS/T 1124-2016磁性溅射靶材透磁率测试方法现行2017-01-01找相似
GB/T 25755-2010真空技术 溅射离子泵 性能参数的测量现行2011-10-01找相似
T/CI 863-2024硬质涂层的电弧/溅射复合离子镀设备技术条件现行2024-12-30——
T/CIET 722-2024半导体用高纯溅射靶材现行2024-10-23——
YS/T 1024-2015溅射用钽靶材现行2015-10-01找相似
YS/T 1555-2022铂钴铬硼合金溅射靶材现行2023-04-01找相似
YS/T 1357-2020磁记录用铬钽钛合金溅射靶材现行2021-04-01找相似
JB/T 2965-1992溅射离子泵性能测试方法废止1993-07-01找相似
JB/T 4081-1991溅射离子泵型式与基本参数废止1992-07-01找相似
JB/T 4082-1991溅射离子泵技术条件废止1992-07-01找相似
JB/T 8945-1999真空溅射镀膜设备废止2000-01-01找相似
GB/T 20175-2006表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法废止2006-11-01找相似