JB/T 2965-1992 相似标准 第1页

更新时间 2026-10-27
标准号标准名称状态实施日期相似标准
JB/T 2965-1992溅射离子泵性能测试方法废止1993-07-01相似
GB/T 25755-2010真空技术 溅射离子泵 性能参数的测量现行2011-10-01相似
GB/T 41064-2021表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法现行2022-07-01相似
JB/T 4081-2011真空技术 溅射离子泵现行2012-04-01相似
T/CI 863-2024硬质涂层的电弧/溅射复合离子镀设备技术条件现行2024-12-30——
JB/T 4081-1991溅射离子泵型式与基本参数废止1992-07-01相似
JB/T 4082-1991溅射离子泵技术条件废止1992-07-01相似
YS/T 1124-2016磁性溅射靶材透磁率测试方法现行2017-01-01相似
T/CIE 132-2022磁控溅射设备薄膜精度测试方现行2022-08-10——
GB/T 31227-2014原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法现行2015-04-15相似
YS/T 837-2012溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法现行2013-03-01相似
GB/T 20175-2025表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法现行2026-01-01相似
GB/T 20175-2006表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法废止2006-11-01相似
GB/T 29557-2013表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量现行2014-03-01相似
JB/T 8945-2010真空溅射镀膜设备现行2010-07-01相似
YS/T 935-2013电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南现行2014-03-01相似
YS/T 893-2013电子薄膜用高纯钛溅射靶材现行2014-03-01相似
YS/T 1358-2020磁记录用铁钴钽合金溅射靶材现行2021-04-01相似