Vacuum technology - Sputter-ion pumps - Measurement of performance characteristics
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 25755-2010 | 真空技术溅射离子泵 性能参数的测量 | 现行 | 2011-10-01 | 找相似 |
| JB/T 4081-2011 | 真空技术溅射离子泵 | 现行 | 2012-04-01 | 找相似 |
| JB/T 4081-1991 | 溅射离子泵型式与基本参数 | 废止 | 1992-07-01 | 找相似 |
| JB/T 2965-1992 | 溅射离子泵性能测试方法 | 废止 | 1993-07-01 | 找相似 |
| JB/T 8945-2010 | 真空溅射镀膜设备 | 现行 | 2010-07-01 | 找相似 |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-02-01 | —— |
| JB/T 8945-1999 | 真空溅射镀膜设备 | 废止 | 2000-01-01 | 找相似 |
| T/CSEA 15-2021 | 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验 | 现行 | 2021-02-01 | —— |
| T/CI 863-2024 | 硬质涂层的电弧/溅射复合离子镀设备技术条件 | 现行 | 2024-12-30 | —— |
| JB/T 4082-1991 | 溅射离子泵技术条件 | 废止 | 1992-07-01 | 找相似 |
| GB/T 41064-2021 | 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 | 现行 | 2022-07-01 | 找相似 |
| SJ/T 10478-1994 | 磁控溅射设备通用技术条件 | 现行 | 1994-10-01 | 找相似 |
| T/GVS 002-2021 | 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求 | 现行 | 2021-06-28 | —— |
| T/GDSHJXH 010-2025 | 首饰表面玫瑰金膜层磁控溅射技术规范 | 现行 | 2025-01-22 | —— |
| T/SZS 4034-2021 | 贵金属首饰表面磁控溅射镀铑工艺技术规范 | 现行 | 2021-07-22 | —— |
| GB/T 7774-2007 | 真空技术 涡轮分子泵性能参数的测量 | 现行 | 2008-06-01 | 找相似 |
| GB/T 40344.3-2024 | 真空技术真空泵性能测量标准方法 第3部分：机械增压泵的特定参数 | 现行 | 2024-04-25 | 找相似 |
| GB/T 31227-2014 | 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法 | 现行 | 2015-04-15 | 找相似 |