| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 实施日期 | 相似标准 |
|---|---|---|---|---|
| YS/T 1358-2020 | 磁记录用铁钴钽合金溅射靶材 | 现行 | 2021-04-01 | 找相似 |
| GB/T 29658-2013 | 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材 | 现行 | 2014-05-01 | 找相似 |
| YS/T 1025-2015 | 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 | 现行 | 2015-10-01 | 找相似 |
| YS/T 1555-2022 | 铂钴铬硼合金溅射靶材 | 现行 | 2023-04-01 | 找相似 |
| YS/T 1357-2020 | 磁记录用铬钽钛合金溅射靶材 | 现行 | 2021-04-01 | 找相似 |
| YS/T 1683-2024 | 磁记录用铬钛合金溅射靶材 | 现行 | 2024-10-01 | 找相似 |
| GB/T 31227-2014 | 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法 | 现行 | 2015-04-15 | 找相似 |
| GB/T 29557-2013 | 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量 | 现行 | 2014-03-01 | 找相似 |
| JB/T 8945-2010 | 真空溅射镀膜设备 | 现行 | 2010-07-01 | 找相似 |
| JB/T 4081-2011 | 真空技术 溅射离子泵 | 现行 | 2012-04-01 | 找相似 |
| GB/T 41064-2021 | 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法 | 现行 | 2022-07-01 | 找相似 |
| YS/T 935-2013 | 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南 | 现行 | 2014-03-01 | 找相似 |
| YS/T 893-2013 | 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 | 现行 | 2014-03-01 | 找相似 |
| YS/T 837-2012 | 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法 | 现行 | 2013-03-01 | 找相似 |
| YS/T 718-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶 | 现行 | 2010-06-01 | 找相似 |
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| YS/T 719-2009 | 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶 | 现行 | 2010-06-01 | 找相似 |
| GB/T 45345-2025 | 金属及其他无机覆盖层 工程用直流磁控溅射银镀层 镀层附着力的测量 | 现行 | 2025-09-01 | 找相似 |