Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 40110-2021 | 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染 | 现行 | 2021-05-21 | 2021-12-01 |
| GB/T 42658.3-2025 | 表面化学分析 样品处理、制备和安装 第3部分：生物材料 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/T 45768-2025 | 表面化学分析 二次离子质谱 单离子计数飞行时间质谱分析器的强度标线性 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/Z 32494-2016 | 表面化学分析俄歇电子能谱化学信息的解析 | 现行 | 2016-02-24 | |
| GB/T 32998-2016 | 表面化学分析俄歇电子能谱 荷电控制与校正方法报告的规范要求 | 现行 | 2016-10-13 | 2017-09-01 |
| GB/T 32565-2016 | 表面化学分析俄歇电子能谱（AES）数据记录与报告的规范要求 | 现行 | 2016-02-24 | 2017-01-01 |
| GB/T 32996-2025 | 表面化学分析 辉光放电发射光谱法分析金属氧化物膜 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/T 45769-2025 | 表面化学分析 X射线光电子能谱 均匀材料中元素检测限的评估和报告 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/T 20176-2025 | 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/Z 32490-2016 | 表面化学分析 X射线光电子能谱 确定本底的程序 | 现行 | 2016-02-24 | |
| GB/T 45773-2025 | 表面化学分析 X射线光电子能谱全扫描谱的准实时信息 含碳化合物表面污染的识别和校正规则 | 现行 | 2025-06-30 | 2026-01-01 |
| GB/T 40129-2021 | 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准 | 现行 | 2021-05-21 | 2021-12-01 |
| GB/T 41072-2021 | 表面化学分析 电子能谱 紫外光电子能谱分析指南 | 现行 | 2021-12-31 | 2022-04-01 |
| GB/T 38114-2019 | 纳米技术 石墨烯材料表面含氧官能团的定量分析化学滴定法 | 现行 | 2019-10-18 | 2020-09-01 |
| GB/T 40128-2021 | 表面化学分析 原子力显微术 二硫化钼片层材料厚度测量方法 | 现行 | 2021-05-21 | 2021-12-01 |
| T/CSTM 01193-2024 | 酸化碳纳米管 表面元素及化学态分析方法 X射线光电子能谱 | 现行 | 2024-01-05 | 2024-04-05 |
| T/CNEA 249.9-2024 | 核工业用锆及锆合金化学分析方法 第9部分：表面氯含量的测定离子选择电极法 | 现行 | 2024-12-04 | 2025-02-02 |
| T/CNEA 249.8-2024 | 核工业用锆及锆合金化学分析方法 第8部分：表面氟含量的测定 分光光度法 | 现行 | 2024-12-04 | 2025-02-02 |