Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of relative sensitivity factors from ion-implanted reference materials
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| SY/T 0532-2012 | 油田注入水细菌分析方法 绝迹稀释法 | 现行 | 2012-01-04 | 2012-03-01 |
| SY/T 0532-1993 | 油田注入水细菌分析方法绝迹稀释法 | 废止 | 1994-01-06 | 1994-06-01 |
| GB/Z 122-2025 | 表面化学分析 辉光放电质谱 操作程序 | 现行 | 2025-12-03 | |
| GB/T 34326-2017 | 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法 | 废止 | 2017-09-29 | 2018-08-01 |
| T/CNEA 249.9-2024 | 核工业用锆及锆合金化学分析方法 第9部分：表面氯含量的测定 离子选择电极法 | 现行 | 2024-12-04 | 2025-02-02 |
| T/CNEA 249.10-2024 | 核工业用锆及锆合金化学分析方法 第10部分：表面钙、镁、钠量的测定 电感耦合等离子体发射光谱法 | 现行 | 2024-12-04 | 2025-02-02 |
| GB/T 47073-2026 | 表面化学分析 深度剖析 中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析 | 即将实施 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| GB/T 34326-2026 | 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法 | 即将实施 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| GB/T 24575-2009 | 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法 | 现行 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| SN/T 4240-2015 | 电子电气产品 金属部件表面镀镍层中铅、镉含量测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2015-05-26 | 2016-01-01 |
| GB/T 29849-2013 | 光伏电池用硅材料表面金属杂质含量的电感耦合等离子体质谱测量方法 | 现行 | 2013-11-12 | 2014-04-15 |
| GB/T 39145-2020 | 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2020-10-11 | 2021-09-01 |
| GB/T 24582-2023 | 多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2023-08-06 | 2024-03-01 |
| T/CASAS 032-2023 | 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2023-06-19 | 2023-06-19 |
| GB/T 24582-2009 | 酸浸取 电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质 | 废止 | 2009-10-30 | 2010-06-01 |
| YS/T 1864-2026 | 流化床法颗粒硅表面金属含量的测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法 | 即将实施 | 2026-04-15 | 2026-11-01 |
| SN/T 4501.2-2017 | 镍精矿化学分析方法 第2部分：镓、锗、硒、镉、铟、碲、镧、铊含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2017-05-12 | 2017-12-01 |
| GB/T 14352.20-2021 | 钨矿石、钼矿石化学分析方法 第20部分：铌、钽、锆、铪及15个稀土元素量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2021-03-09 | 2021-10-01 |