Polycrystalline silicon—Determination of trace elements—Glow discharge mass spectrometry method
| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 33236-2016 | 多晶硅痕量元素化学分析辉光放电质谱法 | 现行 | 2016-12-13 | 2017-11-01 |
| DB53/T 501-2013 | 多晶硅用三氯氢硅杂质元素含量测定 电感耦合等离子体质谱法 | 废止 | 2013-08-01 | 2013-10-01 |
| GB/T 35309-2017 | 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程 | 现行 | 2017-12-29 | 2018-07-01 |
| GB/T 29057-2023 | 用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程 | 现行 | 2023-08-06 | 2024-03-01 |
| GB/T 29057-2012 | 用区熔拉晶法和光谱分析法评价多晶硅棒的规程 | 废止 | 2012-12-31 | 2013-10-01 |
| GB/T 36590-2018 | 高纯银化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2018-09-17 | 2019-06-01 |
| GB/T 42518-2023 | 锗酸铋(BGO)晶体 痕量元素化学分析辉光放电质谱法 | 现行 | 2023-05-23 | 2023-09-01 |
| YS/T 229.4-2013 | 高纯铅化学分析方法 第4部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2013-10-17 | 2014-03-01 |
| YS/T 895-2013 | 高纯铼化学分析方法 痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2013-10-17 | 2014-03-01 |
| YS/T 917-2013 | 高纯镉化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2013-10-17 | 2014-03-01 |
| YS/T 474-2021 | 高纯镓化学分析方法 痕量元素的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2021-03-05 | 2021-07-01 |
| YS/T 1347-2020 | 高纯铪化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2020-04-16 | 2020-10-01 |
| YS/T 870-2020 | 纯铝化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2020-12-09 | 2021-04-01 |
| YS/T 922-2013 | 高纯铜化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2013-10-17 | 2014-03-01 |
| GB/T 45020-2024 | 铌铪合金化学分析方法 痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2024-11-28 | 2025-06-01 |
| GB/T 13748.24-2025 | 镁及镁合金化学分析方法 第24部分：痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2025-01-24 | 2025-08-01 |
| GB/T 13747.27-2020 | 锆及锆合金化学分析方法 第27部分：痕量杂质元素的测定 电感耦合等离子体质谱法 | 现行 | 2020-03-06 | 2021-02-01 |
| GB/T 37211.3-2022 | 金属锗化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素的测定 辉光放电质谱法 | 现行 | 2022-12-30 | 2023-04-01 |