| 标准号 | 标准名称 | 状态 | 发布日期 | 实施日期 |
|---|---|---|---|---|
| GB/T 8014.1-2005 | 铝及铝合金阳极氧化 氧化膜厚度的测量方法 第1部分:测量原则 | 现行 | 2005-07-04 | 2005-12-01 |
| GB/T 23285-2009 | 缩微摄影技术 开窗卡增厚区厚度的测量方法 | 现行 | 2009-03-13 | 2009-09-01 |
| GB/T 43682-2024 | 纳米技术 亚纳米厚度石墨烯薄膜载流子迁移率及方块电阻测量方法 | 现行 | 2024-03-15 | 2024-07-01 |
| GB/T 31225-2014 | 椭圆偏振仪测量硅表面上二氧化硅薄层厚度的方法 | 现行 | 2014-09-30 | 2015-04-15 |
| GB/T 14847-2010 | 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法 | 废止 | 2011-01-10 | 2011-10-01 |
| GB/T 7991.5-2014 | 搪玻璃层试验方法 第5部分：用电磁法测量厚度 | 现行 | 2014-12-05 | 2015-07-01 |
| GB/T 40128-2021 | 表面化学分析 原子力显微术 二硫化钼片层材料厚度测量方法 | 现行 | 2021-05-21 | 2021-12-01 |
| GB/T 38518-2020 | 柔性薄膜基体上涂层厚度的测量方法 | 现行 | 2020-03-06 | 2021-02-01 |
| GB/T 17722-1999 | 金覆盖层厚度的扫描电镜测量方法 | 废止 | 1999-04-11 | 1999-12-01 |
| GB/T 17722-2026 | 微束分析 金覆盖层厚度的扫描电镜测量方法 | 即将实施 | 2026-01-28 | 2026-08-01 |
| GB/T 47182-2026 | 微束分析 分析电子显微术 核壳颗粒壳壁厚度的测量方法 | 即将实施 | 2026-02-27 | 2026-09-01 |
| T/IAWBS 007-2018 | 4H 碳化硅同质外延层厚度的红外反射测量方法 | 现行 | 2018-12-06 | 2018-12-17 |
| YS/T 14-2015 | 异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法 | 现行 | 2015-04-30 | 2015-10-01 |
| JB/T 7503-1994 | 金属覆盖层横截面厚度扫描电镜测量方法 | 废止 | 1994-12-09 | 1995-10-01 |
| YS/T 14-1991 | 导质外延层和硅夕晶层厚度测量方法 | 废止 | 1991-04-26 | 1992-06-01 |
| JB/T 8270-1995 | 静电复印光导体膜层厚度测量方法 | 废止 | 1996-04-14 | 1996-04-14 |
| GB/T 16921-1997 | 金属覆盖层 厚度测量 X射线光谱方法 | 废止 | 1997-07-25 | 1998-02-01 |
| DB21/T 2078-2013 | 电线电缆通用试验方法 绝缘厚度的测量 | 废止 | 2013-01-22 | 2013-02-22 |